服務熱線
021-67898912
產品分類
相關文章
-
產品名稱：
二氧化硅消光粉高速膠體磨
產品型號： GM2000更新時間： 2025-01-14描述：二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
產品介紹
| 應用領域 | 日用化工 | 生產能力 | 0-1000kg/h |
|---|---|---|---|
| 進料口直徑 | 25寸 | 出料口直徑 | 15寸 |
| 電機功率 | 4KW | 外形尺寸 | 450*350*750mm |
| 重量 | 50kg |
二氧化硅消光粉高速膠體磨
光用二氧化硅膠體磨，二氧化硅消光粉膠體磨，消光粉濕法膠體磨，微納米二氧化硅德國膠體磨，粒度均勻超微消光粉膠體磨，管線式高速膠體磨，化工用消光粉膠體磨，立式分體消光粉膠體磨
二氧化硅消光粉外觀為白色分散性粉末狀或顆粒狀，廣泛應用于涂料工業(yè)。通過對其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制，消光粉能夠為不同的涂料和印刷油墨提供出色的啞光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感，平均粒徑小且集中。
在傳統(tǒng)膠體磨基礎上改進，不僅使轉速由原來的3000轉提升到了14000轉，甚至是21000轉的超高轉速，細碎效果更好，作用效率更快，同時在結構是除了原本有的細碎研磨功能以外，更增設了高速離心分散功能，使物料在細碎過后能夠更加穩(wěn)定的分散，不分層，不沉淀。 改進型膠體磨依靠定轉子間間隙(間隙可調)使物料在通過研磨區(qū)域使受到強大的機械力、液力剪切、高頻振動等多重力的物理作用，被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎，隨后進過第二級高速剪切分散盤再一次剪切細化分散、勻化，達到物料超細粉碎和分散勻化的效果。
- 耐有機溶劑、耐腐蝕； 2、材質為316L不銹鋼；
3、設備定轉子(研磨分散工作腔體)間間隙可調，粒度可控；
4、設備整體機身夾套設計，高轉速產生的熱量可以通過外接冷卻設備進行控溫；
5、主軸與電機分體設計，用戶可根據需要選擇適當的轉速；
6、設備為變頻調速，可通過變頻控制柜合理準確的調節(jié)設備轉速；
7、可靈活設計生產過程中的特殊需求(設備表面光潔度、真空、防爆、設備材質)；
8、從實驗室設備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗，無需重新調整實驗數據，程度降低了風險
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
?
以下為型號表供參考：
| 型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
| GM2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
| GM2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
| GM2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
| GM2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
| GM2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
| GM2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
二氧化硅消光粉高速膠體磨
相關產品
- (上一篇)：GM2000斯奇康多糖核酸納米膠體磨
- (下一篇)：GM2000透皮貼劑超高速膠體磨